半导体专用氢气发生器是一种被广泛认可和接受的氢气钢瓶替代方案。一台氢气发生器可以持续地提供高纯度的氢气来满足气相色谱仪工作时的载气需求，并且投资成本收回周期较短。氢气发生器可以提供纯度高达99.9999%的氢气来用作载气，或者用作燃烧气来支持某些检测器的运行。
 

 

　　使用半导体专用氢气发生器时，首先需要用原料氢置换系统，从阀3放空，待系统内的高纯氮置换干净后，根据原料氢中的含氢量和所需高纯氢量，参照表一数据，来选定操作温度、操作压力和驰放气量，然后再通电加热钯管，从阀2流出高纯氢。
 

　　调温方法可以根据随机所带的说明书进行温度设定。从钯扩散制得的高纯氢到实际获得的高纯氢，还需要置换阀2前管线的一段时间，通常约需2~3小时。由于设备在出厂前都要经过产品质量检验，因此阀1和阀3管线内充有高纯氮，阀2到管线前那段管线充有高纯氮。当设备停止使用时，应先停电，待装置冷却后各阀门都关闭再停气，以便在下次使用时减少置换系统的时间。
 

　　一般来说，在钯管厚度一定的情况下，进出口压力差越大，温度越高，则氢的渗透量越大。但平均压力以8~3公斤/平方厘米为宜，操作温度为300~400℃。电压也应保持在2.3V左右。
 

　　半导体专用氢气发生器通过压缩机对空气或其他气体进行压缩，储存在储气罐中，以便使用。它主要由压缩机、储气罐、过滤器、干燥室等部分组成。具有电解面积大、池温低、性能好、产气量大、纯度高等优点。