大流量氢气发生器在CVD和MOCVD领域中的应用非常广泛，主要用于提供高纯度、稳定的氢气源，以满足这些技术对氢气的需求。
大流量氢气发生器在CVD（Chemical Vapor Deposition）和MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition）技术中发挥着至关重要的作用。CVD和MOCVD是两种重要的化学气相沉积技术，广泛应用于半导体材料、光电材料和纳米材料的制备过程中。这些技术通过利用气态或蒸汽状态的物质在固体表面上进行化学反应，从而形成所需的固态薄膜或涂层。在这一过程中，氢气不仅是还原剂，还常作为载气使用，帮助输送和分解金属有机化合物。因此，一个稳定且高纯度的氢气源是这些技术顺利进行的关键。
大流量氢气发生器的核心作用是提供高纯度的氢气。氢气中的微量氧、水蒸气等杂质会对CVD和MOCVD过程产生不利影响，例如导致沉积物的晶粒异常生长、出现分层现象等。而大流量氢气发生器通过先进的电解技术和多重纯化系统，能够产生纯度高达99.9999%以上的氢气，有效避免了这些杂质问题。这种高纯度氢气不仅提升了沉积薄膜的质量，还显著减少了实验失败的风险。
大流量氢气发生器的另一个重要特点是其供气的稳定可靠。在CVD和MOCVD过程中，氢气的流量和压力需要精确控制，以确保化学反应的一致性和薄膜生长的均匀性。大流量氢气发生器采用自动化控制系统，能够实时监测和调节氢气的输出，保持恒定的流量和压力。这种稳定性不仅提高了生产效率，还确保了最终产品的一致性和重复性。
大流量氢气发生器的安全性也是其在CVD和MOCVD领域得以广泛应用的重要原因。相比传统的高压氢气钢瓶，氢气发生器通过即产即用的模式，大大降低了操作中的安全隐患。同时，这些设备内置多种安全监测装置，如压力传感器、温度传感器和泄漏检测器，能够在异常情况下自动关闭并报警，保障实验室和生产环境的安全。
现在，大流量氢气发生器已经被大量应用于以上工艺中，这种氢气发生器可以与超纯水机联用，由超纯水机制取二级水并储存至水箱备用。当氢气发生器缺水时，会自动供给水。多台氢气发生器可以串联使用，通过串联控制线由一台发生器控制其他发生器，实现产气的均匀分配。 (以两台设备为例控制图如下)