金刚石MPCVD氢气发生器(南京/杭州)|精品推荐

 普拉勒金刚石MPCVD氢气发生器介绍  

一、产品概述  

普拉勒金刚石MPCVD氢气发生器是一款专为金刚石薄膜制备设计的先进设备，采用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）技术，结合高效氢气生成系统，为金刚石生长提供稳定、纯净的氢气环境。该设备广泛应用于半导体、光学、机械加工等领域，是高性能金刚石薄膜制备的理想选择。
 

二、核心特点  

1. 高效氢气生成  

1）采用先进的电解水技术，高效生成高纯度氢气（纯度≥99.999%），满足金刚石薄膜制备的严格要求。  

2）氢气产量稳定，可根据实验需求灵活调节，确保实验过程的连续性和稳定性。  

2. MPCVD技术优势  

1）微波等离子体技术提供均匀的高能量密度，促进金刚石薄膜的高质量生长。  

2）等离子体环境可控性强，支持多种气体混合，适应不同金刚石薄膜的制备需求。  

3. 智能化控制  

1）配备先进的PLC控制系统，实现氢气流量、压力、温度等参数的精确控制。  

2）支持多段程序设定，自动化操作，减少人为干预，提高实验效率。  

4. 安全可靠  

1）配备多重安全保护功能，包括过压保护、漏气保护、过温保护等，确保设备运行安全。  

2）采用防爆设计和优质材料，适应高能量密度环境，延长设备使用寿命。  

三、技术参数  

1）氢气纯度：≥99.999%  

2）氢气流量：0-1000 sccm（可调）  

3）工作压力：0.1-100 kPa（可调）  

4）电源功率：3-5 kW  

5）冷却方式：水冷/风冷  

四、应用领域  

1. 半导体行业：用于制备高性能金刚石薄膜，提升半导体器件的散热性能和电学性能。  

2. 光学领域：用于制备高透光率、高硬度的金刚石薄膜，应用于光学窗口、激光器等。  

3. 机械加工：用于制备超硬金刚石涂层，提高刀具、模具的耐磨性和使用寿命。