CVD，MOCVD专用氢气发生器功能及原理

CVD（Chemical Vapor Deposition）即化学气相沉积，是一种常用的薄膜生长技术。它通过在气相条件下使化学反应发生，让气态前驱物沉积在固体表面上形成薄膜。而MOCVD（Metalorganic Chemical Vapor Deposition）即金属有机化合物化学气相沉积，是一种特殊类型的CVD技术，用于在基底表面生长金属、合金或化合物的薄膜。在这两种技术中，CVD，MOCVD专用氢气发生器扮演着至关重要的角色。

CVD技术

CVD的基本原理是将所需的反应气体和基底材料放置在封闭的反应室中，通过加热或提供能量激活反应气体。在适当的温度和压力下，反应气体分解并与基底表面上的原子或分子发生化学反应，生成固态产物并沉积在基底表面上。通过控制反应气体的组成、温度、压力和反应时间等参数，可以控制薄膜的化学成分、结构和厚度。

CVD技术具有淀积温度低、薄膜成份易控、膜厚与淀积时间成正比、均匀性好、重复性好以及台阶覆盖性优良等特点。它广泛应用于制备各种简单特性的薄膜，如单晶硅、多晶硅、二氧化硅等，以及复合材料如碳化硅和氮化硅等。此外，CVD还用于制备生物材料和植入物，如人工牙齿和骨骼等。

MOCVD技术

MOCVD技术是在高温下将有机金属化合物蒸汽与半导体衬底表面的金属原子相互作用，形成半导体材料。其原理是利用金属有机化合物作为反应前驱物，通过与气体相混合并在合适的反应条件下，使金属有机分子在基底表面发生化学反应和沉积，形成所需的薄膜。

MOCVD技术具有高度可控性、高效率、低成本等优点，被广泛应用于LED、激光器、太阳能电池等领域。在LED领域中，MOCVD技术能够制备出高亮度、高效率的LED器件。在激光器领域中，MOCVD技术可以制备出高质量的半导体材料，实现高功率、高效率的激光器器件。在太阳能电池领域中，MOCVD技术能够制备出高效的太阳能电池材料，提高太阳能电池的光电转换效率和光稳定性。

在CVD和MOCVD过程中，CVD，MOCVD专用氢气发生器主要用于提供高纯度、稳定的氢气。氢气在CVD和MOCVD反应中起到多种作用：

1.消除杂质：氢气能够消除反应过程中产生的氧化物、氮化物等杂质，提高薄膜的纯度。氢气与这些杂质反应，如氧化物反应生成水，从而去除反应产物和杂质。

2.作为还原剂：氢气在反应中起到还原剂的作用，使反应中产生的金属离子还原为金属原子，从而促进反应的进行。

控制反应条件：氢气发生器还可用于清洗反应室和传递气体，以帮助调节反应条件，提高薄膜的均匀性和稳定性。通过控制氢气流量，可以调节反应室内的氢气浓度和反应速率。