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产品名称:半导体专用氢气发生器

浏览次数:7182

更新时间:2023-11-20

产品简介:在半导体制造过程中,清洗和退火是非常重要的步骤。半导体专用氢气发生器可以用作清洗气体,通过去除表面的污染物和氧化物,提供干净的表面。同时,氢气还可用于退火过程,促进晶体的再结晶和去除损伤。

详细资料:

半导体专用氢气发生器是由电解池、纯水箱、氢/水分离器、收集器、干燥器、传感器、压力调节阀、开关电源等部件组成,设备通电后,电解池阴极产氢气,阳极产氧气,氢气进入氢/水分离器,氧气排入大气。

氢/水分离器将氢气和水分离,氢气进入干燥器除湿后,经稳压阀、调节阀调整到额定压力(0.02~0.45Mpa可调)由出口输出。电解池的产氢压力由传感器控制在0.45Mpa左右,当压力达到设定值时,电解池电源供应切断;压力下降,低于设定值时电源恢复供电。

半导体专用氢气发生器采用SPE固态电解质技术,无需用碱,直接电解纯水有效的保护色谱柱,其结构优势有:

1、采用英国Peculiar研发离子膜(技术);

2、采用分子筛耐用干燥剂,使氢气纯化更加*,以产生纯度为99.9999%的氢气,确保结果的重现性;

3、采用英国Peculiar硅橡胶圈(含硫量低),有效提高气体质量,保证GC基线平稳;

4、自动水位控制,当缺水状态时,自动停机,自动补水功能Hydrogen-500(S)水量低于15%时,由外置水箱自动补水,无需停机加水。有效保护电解池,延长使用寿命;

5、压力及流量均采用一体化微电脑的控制。


 


 






 

 


氢气发生器在半导体行业中的应用:

1.清洗和退火:在半导体制造过程中,清洗和退火是非常重要的步骤。氢气可以用作清洗气体,通过去除表面的污染物和氧化物,提供干净的表面。同时,氢气还可用于退火过程,促进晶体的再结晶和去除损伤。

2.赋活处理:氢气还可以用于赋活处理,即将水合氧化物转化为电氧化物以提高杂质离子的浓度。这对于改善半导体器件的性能和稳定性非常重要。

3.氢氟化物析出:在半导体器件制造过程中,需要使用氢氟酸进行刻蚀。而氢氟化物析出则是将气相中的氢氟化物从湿法排放中回收,减少对环境的污染。

4.硅取向和外延生长:氢气可以用于调控硅晶片的取向和外延生长过程。通过控制氢气的流量和温度,可以使硅晶面优先生长在特定方向上,得到特定取向的硅材料。

5.清除氧污染:在一些特殊的半导体工艺中,氢气可以用来清除氧气的污染,避免氧气与半导体材料反应产生影响器件性能的氧化物。 

 


 如果你对半导体专用氢气发生器感兴趣,想了解更详细的产品信息,请与我们联系:

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