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产品名称:半导体专用氢气发生器

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更新时间:2024-04-07

产品简介:半导体专用氢气发生器是由多个部件组成的设备,包括电解池、纯水箱、氢/水分离器、收集器、干燥器、传感器、压力调节阀和开关电源等,设备采用英国Peculiar研发的离子膜技术。

详细资料:

半导体专用氢气发生器是由多个部件组成的设备,包括电解池、纯水箱、氢/水分离器、收集器、干燥器、传感器、压力调节阀和开关电源等。当设备通电后,电解池的阴极产生氢气,阳极产生氧气。氢气进入氢/水分离器,而氧气则排入大气中。

氢/水分离器的作用是将氢气和水分离开来。经过分离后的氢气进入干燥器进行除湿处理,然后通过稳压阀和调节阀调整到额定压力(0.02~0.45Mpa可调),并由出口输出。电解池的产氢压力由传感器控制,保持在大约0.45Mpa左右。当压力达到设定值时,电解池的电源供应会被切断;而当压力下降并低于设定值时,电源会恢复供电。

半导体专用氢气发生器采用了SPE固态电解质技术,无需使用碱液。它直接电解纯水,有效地保护色谱柱。该设备具有以下结构优势:

1.采用英国Peculiar研发的离子膜技术;

2.使用分子筛耐用干燥剂,使氢气纯化更加高效,能够产生纯度为99.9999%的氢气,确保结果的重现性;

3.采用英国Peculiar硅橡胶圈(含硫量低),有效提高气体质量,保证GC基线平稳;

4.具备自动水位控制功能,当缺水状态时会自动停机,并具备自动补水功能。Hydrogen-500(S)水量低于15%时,外置水箱会自动补水,无需停机加水。这样可以有效保护电解池并延长使用寿命;

5.压力和流量均采用一体化微电脑控制。


 


 






 

 


 

氢气发生器在半导体行业中的应用:

 

1.清洗和退火:在半导体制造过程中,清洗和退火是非常重要的步骤。氢气可以用作清洗气体,通过去除表面的污染物和氧化物,提供干净的表面。同时,氢气还可用于退火过程,促进晶体的再结晶和去除损伤。

 

2.赋活处理:氢气还可以用于赋活处理,即将水合氧化物转化为电氧化物以提高杂质离子的浓度。这对于改善半导体器件的性能和稳定性非常重要。

 

3.氢氟化物析出:在半导体器件制造过程中,需要使用氢氟酸进行刻蚀。而氢氟化物析出则是将气相中的氢氟化物从湿法排放中回收,减少对环境的污染。

 

4.硅取向和外延生长:氢气可以用于调控硅晶片的取向和外延生长过程。通过控制氢气的流量和温度,可以使硅晶面优先生长在特定方向上,得到特定取向的硅材料。

 

5.清除氧污染:在一些特殊的半导体工艺中,氢气可以用来清除氧气的污染,避免氧气与半导体材料反应产生影响器件性能的氧化物。 

 

 


 如果你对半导体专用氢气发生器感兴趣,想了解更详细的产品信息,请与我们联系:

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