金刚石MPCVD氢气发生器正成为材料制备的核心支撑设备
在微波等离子体化学气相沉积法制备高质量金刚石薄膜的过程中，高纯氢气不仅是等离子体激发的载气，更是刻蚀非金刚石碳相、促进sp3键形成的关键反应气体。传统钢瓶供氢存在压力波动、纯度不稳、安全隐患等问题，而专为MPCVD系统设计的
金刚石MPCVD氢气发生器凭借即产即用、纯度≥99.9999%、流量稳定、本质安全等优势，正成为材料制备的核心支撑设备，并在多个前沿领域发挥重要的作用。
一、金刚石材料制备
在单晶/多晶金刚石生长中，氢气纯度直接影响晶体质量。杂质（如O、HO、N）会导致缺陷、应力或石墨化。金刚石MPCVD氢气发生器通过质子交换膜（PEM）电解纯水，产出超纯氢，配合MPCVD腔体实现：
高速、低缺陷单晶金刚石外延（用于量子传感、高功率器件）；
光学级透明金刚石窗口（红外/太赫兹透镜）；
热导率＞2000W/m·K的散热片（5G基站、激光器热沉）。
二、半导体与电子器件
金刚石基氮化镓（GaN-on-Diamond）：利用氢气发生器稳定供氢，实现高导热复合衬底，解决高频芯片散热瓶颈；
量子NV色心制备：超高纯氢环境减少杂质掺入，提升量子相干时间；
替代传统氨气/氢气混合体系，提升工艺洁净度与重复性。
三、光学与激光技术
在制备大尺寸CVD金刚石光学窗口时，氢气发生器确保长时间（>100小时）沉积过程无波动，避免因氢气杂质导致的吸收峰（如2.87μmOH峰），满足高能激光器、整流罩等对低吸收、高损伤阈值的严苛要求。
四、精密工具与耐磨涂层：提升工业刀具寿命
在硬质合金刀具表面沉积纳米晶金刚石涂层时，稳定高纯氢气可优化等离子体密度，增强膜基结合力，使刀具寿命提升3–5倍，广泛应用于航空航天钛合金加工、汽车发动机缸体切削等领域。
